薄膜技术与薄膜材料
出版时间:
2015-03
版次:
1
ISBN:
9787122226181
定价:
30.00
装帧:
平装
开本:
32开
纸张:
胶版纸
页数:
242页
字数:
210千字
正文语种:
简体中文
77人买过
-
《薄膜技术与薄膜材料》是作者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成,全书共分4章,分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜),化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等),硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等),以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。
《薄膜技术与薄膜材料》除了具有一定的理论参考价值外,也具有较为广泛的应用价值,既可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书,也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用书。 1物理气相沉积
1.1物理气相沉积
1.2真空蒸发镀膜
1.2.1真空蒸发的基本过程
1.2.2蒸发热力学
1.2.3蒸发速率
1.2.4蒸发分子的平均自由程与碰撞概率
1.2.4.1蒸发分子平均自由程
1.2.4.2碰撞概率
1.2.5蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
1.2.5.1点蒸发源
1.2.5.2小平面蒸发源
1.2.6蒸发源的类型
1.2.6.1电阻加热蒸发源
1.2.6.2电子束加热蒸发源
1.2.6.3高频感应加热蒸发源
1.2.6.4电弧加热蒸发源
1.2.6.5激光加热蒸发源
1.2.7合金及化合物蒸发
1.2.7.1合金的蒸发
1.2.7.2合金薄膜的制备方法
1.2.7.3化合物蒸发法
1.3溅射镀膜
1.3.1辉光放电
1.3.1.1直流辉光放电的过程与特性
1.3.1.2帕邢定律
1.3.1.3直流辉光放电的现象与其特性
1.3.1.4高频辉光放电的特性
1.3.2溅射原理
1.3.2.1溅射现象
1.3.2.2溅射机理
1.3.2.3溅射率
1.3.2.4溅射原子的能量和速度
1.3.3溅射镀膜技术
1.3.3.1二极溅射
1.3.3.2三极或四极溅射
1.3.3.3射频(RF)溅射
1.3.3.4磁控溅射
1.3.3.5反应溅射
1.4离子镀膜
1.4.1离子镀原理
1.4.2离子镀膜条件
1.4.3离子镀的特点
1.4.4离化率与离子能量
1.4.5离子的轰击作用
1.4.6离子镀类型
1.4.6.1直流二极离子镀
1.4.6.2三极和多极型离子镀
1.4.6.3射频离子镀
1.4.6.4空心阴极离子镀
1.4.6.5活性反应离子镀
2化学气相沉积
2.1化学气相沉积的特点和分类
2.1.1化学气相沉积的特点
2.1.2化学气相沉积技术的分类
2.2CVD反应类型
2.3CVD过程的热力学
2.3.1化学反应的自由能变化
2.3.2CVD中的化学平衡的计算
2.4CVD中的气体输运
2.4.1流动气体边界层及影响因素
2.4.2扩散和对流
2.5CVD中薄膜生长动力学
2.5.1薄膜生长的均匀性
2.5.2温度与沉积速率
2.6CVD装置
2.7低压化学气相沉积
2.8等离子化学气相沉积
2.8.1等离子体的性质
2.8.2PCVD的特点
2.8.3常用的PCVD装置
2.8.3.1直流等离子化学气相沉积
2.8.3.2脉冲等离子化学气相沉积
2.8.3.3射频等离子化学气相沉积
2.8.3.4微波等离子化学气相沉积
2.9金属有机物化学气相沉积
2.10激光化学气相沉积
2.11分子束外延
3硬膜材料
3.1金刚石薄膜
3.1.1金刚石的结构和特点
3.1.2金刚石的性质及应用
3.1.2.1金刚石的力学性能
3.1.2.2金刚石电学性能
3.1.2.3金刚石的热学性能
3.1.2.4金刚石膜的光学性能
3.1.2.5金刚石膜的其他性能
3.1.3金刚石膜的表征
3.1.4低压合成金刚石的机理
3.1.4.1金刚石膜生长的基本原理
3.1.4.2低压气相生长金刚石的驱动力
3.1.4.3金刚石膜生成的基本条件
3.1.5低压沉积金刚石的方法与装置
3.1.5.1概述
3.1.5.2热丝化学气相沉积
3.1.5.3微波等离子体化学气相沉积金刚石膜
3.1.5.4等离子射流法
3.1.6金刚石涂层刀具
3.1.6.1金刚石涂层刀具的特点
3.1.6.2金刚石涂层刀具的技术性能
3.2类金刚石薄膜
3.2.1类金刚石的相结构与表征
3.2.1.1类金刚石的相结构
3.2.1.2类金刚石膜的表征
3.2.2类金刚石膜的性能
3.2.2.1DLC膜的力学性能
3.2.2.2DLC膜的电学性能
3.2.2.3DLC膜的光学性能
3.2.2.4DLC膜的其他性能
3.2.3DLC膜的应用
3.2.3.1DLC膜在机械领域的应用
3.2.3.2DLC膜在声学领域的应用
3.2.3.3DLC膜在电磁学领域的应用
3.2.3.4DLC膜在光学领域的应用
3.2.3.5DLC膜在医学领域的应用
3.2.4DLC膜的制备方法
3.3立方氮化硼薄膜
3.3.1氮化硼的结构和性质
3.3.1.1六角氮化硼的结构和性质
3.3.1.2菱形氮化硼的结构和性质
3.3.1.3纤锌矿氮化硼的结构和性质
3.3.1.4立方氮化硼的结构和性质
3.3.2氮化硼的相图
3.3.3立方氮化硼的表征
3.3.3.1傅立叶变换红外谱(FTIR)分析
3.3.3.2X射线光电子谱(XPS)分析
3.3.3.3氮化硼膜中化学配比的确定
3.3.3.4薄膜的形貌观测
3.3.4立方氮化硼的性质和应用
3.3.5立方氮化硼的制备方法
3.3.5.1物理气相沉积法
3.3.5.2化学气相沉积法
3.3.5.3物理法与化学法制备cBN膜的比较
3.4CNx膜
3.4.1βC3N4的晶体结构
3.4.2CNx膜的性能
3.4.2.1硬度
3.4.2.2耐磨损性能
3.4.2.3电学性能
3.4.2.4光学性质
3.4.3CNx膜的结构分析与表征
3.4.3.1CNx晶体结构的分析
3.4.3.2CNx薄膜的成分分析
3.4.3.3CNx薄膜的FTIR分析
3.4.3.4CNx薄膜的Raman光谱测试
3.4.4CNx的制备方法
3.4.5CNx薄膜的应用
3.4.5.1氮化碳涂层刀具干切削硅铝合金
3.4.5.2氮化碳涂层刀具干切削淬火钢
3.5氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜
3.5.1概述
3.5.2氮化物薄膜
3.5.2.1TiN薄膜
3.5.2.2其他氮化物薄膜
3.5.3碳化物薄膜
3.5.3.1TiC薄膜
3.5.3.2其他碳化物薄膜
3.5.4氧化物薄膜
3.5.4.1氧化铝镀层
3.5.4.2氧化锆薄膜
3.5.5复合膜
3.5.5.1TiCxNy薄膜
3.5.5.2纳米超硬复合膜
4薄膜在液相中的化学及电化学制备
4.1薄膜在液相中的化学转化制备
4.1.1化学镀
4.1.1.1化学镀镍
4.1.1.2化学镀铜
4.1.2化学氧化
4.1.2.1钢铁的化学氧化
4.1.2.2有色金属化学氧化
4.1.3钝化
4.1.3.1钝化膜的形成过程
4.1.3.2钝化膜的组成和结构
4.1.3.3钝化工艺
4.1.3.4影响钝化膜质量的因素
4.1.4磷化
4.1.4.1钢铁磷化处理
4.1.4.2有色金属的磷化
4.2薄膜在液相中的电化学转化制备
4.2.1电镀
4.2.1.1基础知识
4.2.1.2电镀金属
4.2.1.3电镀合金
4.2.1.4电刷镀
4.2.1.5非金属材料电镀
4.2.2阳极氧化
4.2.2.1铝阳极氧化膜
4.2.2.2铝阳极氧化机理
4.2.2.3铝阳极氧化工艺
4.2.2.4铝阳极氧化膜的着色和封闭
4.2.2.5阳极氧化法制备氧化铝模板
4.2.2.6其他有色金属阳极氧化
4.2.3微弧氧化
4.2.3.1铝及铝合金的微弧氧化
4.2.3.2钛及钛合金的微弧氧化
4.2.3.3微弧氧化技术的应用现状及前景
参考文献
-
内容简介:
《薄膜技术与薄膜材料》是作者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成,全书共分4章,分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜),化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等),硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等),以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。
《薄膜技术与薄膜材料》除了具有一定的理论参考价值外,也具有较为广泛的应用价值,既可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书,也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用书。
-
目录:
1物理气相沉积
1.1物理气相沉积
1.2真空蒸发镀膜
1.2.1真空蒸发的基本过程
1.2.2蒸发热力学
1.2.3蒸发速率
1.2.4蒸发分子的平均自由程与碰撞概率
1.2.4.1蒸发分子平均自由程
1.2.4.2碰撞概率
1.2.5蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
1.2.5.1点蒸发源
1.2.5.2小平面蒸发源
1.2.6蒸发源的类型
1.2.6.1电阻加热蒸发源
1.2.6.2电子束加热蒸发源
1.2.6.3高频感应加热蒸发源
1.2.6.4电弧加热蒸发源
1.2.6.5激光加热蒸发源
1.2.7合金及化合物蒸发
1.2.7.1合金的蒸发
1.2.7.2合金薄膜的制备方法
1.2.7.3化合物蒸发法
1.3溅射镀膜
1.3.1辉光放电
1.3.1.1直流辉光放电的过程与特性
1.3.1.2帕邢定律
1.3.1.3直流辉光放电的现象与其特性
1.3.1.4高频辉光放电的特性
1.3.2溅射原理
1.3.2.1溅射现象
1.3.2.2溅射机理
1.3.2.3溅射率
1.3.2.4溅射原子的能量和速度
1.3.3溅射镀膜技术
1.3.3.1二极溅射
1.3.3.2三极或四极溅射
1.3.3.3射频(RF)溅射
1.3.3.4磁控溅射
1.3.3.5反应溅射
1.4离子镀膜
1.4.1离子镀原理
1.4.2离子镀膜条件
1.4.3离子镀的特点
1.4.4离化率与离子能量
1.4.5离子的轰击作用
1.4.6离子镀类型
1.4.6.1直流二极离子镀
1.4.6.2三极和多极型离子镀
1.4.6.3射频离子镀
1.4.6.4空心阴极离子镀
1.4.6.5活性反应离子镀
2化学气相沉积
2.1化学气相沉积的特点和分类
2.1.1化学气相沉积的特点
2.1.2化学气相沉积技术的分类
2.2CVD反应类型
2.3CVD过程的热力学
2.3.1化学反应的自由能变化
2.3.2CVD中的化学平衡的计算
2.4CVD中的气体输运
2.4.1流动气体边界层及影响因素
2.4.2扩散和对流
2.5CVD中薄膜生长动力学
2.5.1薄膜生长的均匀性
2.5.2温度与沉积速率
2.6CVD装置
2.7低压化学气相沉积
2.8等离子化学气相沉积
2.8.1等离子体的性质
2.8.2PCVD的特点
2.8.3常用的PCVD装置
2.8.3.1直流等离子化学气相沉积
2.8.3.2脉冲等离子化学气相沉积
2.8.3.3射频等离子化学气相沉积
2.8.3.4微波等离子化学气相沉积
2.9金属有机物化学气相沉积
2.10激光化学气相沉积
2.11分子束外延
3硬膜材料
3.1金刚石薄膜
3.1.1金刚石的结构和特点
3.1.2金刚石的性质及应用
3.1.2.1金刚石的力学性能
3.1.2.2金刚石电学性能
3.1.2.3金刚石的热学性能
3.1.2.4金刚石膜的光学性能
3.1.2.5金刚石膜的其他性能
3.1.3金刚石膜的表征
3.1.4低压合成金刚石的机理
3.1.4.1金刚石膜生长的基本原理
3.1.4.2低压气相生长金刚石的驱动力
3.1.4.3金刚石膜生成的基本条件
3.1.5低压沉积金刚石的方法与装置
3.1.5.1概述
3.1.5.2热丝化学气相沉积
3.1.5.3微波等离子体化学气相沉积金刚石膜
3.1.5.4等离子射流法
3.1.6金刚石涂层刀具
3.1.6.1金刚石涂层刀具的特点
3.1.6.2金刚石涂层刀具的技术性能
3.2类金刚石薄膜
3.2.1类金刚石的相结构与表征
3.2.1.1类金刚石的相结构
3.2.1.2类金刚石膜的表征
3.2.2类金刚石膜的性能
3.2.2.1DLC膜的力学性能
3.2.2.2DLC膜的电学性能
3.2.2.3DLC膜的光学性能
3.2.2.4DLC膜的其他性能
3.2.3DLC膜的应用
3.2.3.1DLC膜在机械领域的应用
3.2.3.2DLC膜在声学领域的应用
3.2.3.3DLC膜在电磁学领域的应用
3.2.3.4DLC膜在光学领域的应用
3.2.3.5DLC膜在医学领域的应用
3.2.4DLC膜的制备方法
3.3立方氮化硼薄膜
3.3.1氮化硼的结构和性质
3.3.1.1六角氮化硼的结构和性质
3.3.1.2菱形氮化硼的结构和性质
3.3.1.3纤锌矿氮化硼的结构和性质
3.3.1.4立方氮化硼的结构和性质
3.3.2氮化硼的相图
3.3.3立方氮化硼的表征
3.3.3.1傅立叶变换红外谱(FTIR)分析
3.3.3.2X射线光电子谱(XPS)分析
3.3.3.3氮化硼膜中化学配比的确定
3.3.3.4薄膜的形貌观测
3.3.4立方氮化硼的性质和应用
3.3.5立方氮化硼的制备方法
3.3.5.1物理气相沉积法
3.3.5.2化学气相沉积法
3.3.5.3物理法与化学法制备cBN膜的比较
3.4CNx膜
3.4.1βC3N4的晶体结构
3.4.2CNx膜的性能
3.4.2.1硬度
3.4.2.2耐磨损性能
3.4.2.3电学性能
3.4.2.4光学性质
3.4.3CNx膜的结构分析与表征
3.4.3.1CNx晶体结构的分析
3.4.3.2CNx薄膜的成分分析
3.4.3.3CNx薄膜的FTIR分析
3.4.3.4CNx薄膜的Raman光谱测试
3.4.4CNx的制备方法
3.4.5CNx薄膜的应用
3.4.5.1氮化碳涂层刀具干切削硅铝合金
3.4.5.2氮化碳涂层刀具干切削淬火钢
3.5氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜
3.5.1概述
3.5.2氮化物薄膜
3.5.2.1TiN薄膜
3.5.2.2其他氮化物薄膜
3.5.3碳化物薄膜
3.5.3.1TiC薄膜
3.5.3.2其他碳化物薄膜
3.5.4氧化物薄膜
3.5.4.1氧化铝镀层
3.5.4.2氧化锆薄膜
3.5.5复合膜
3.5.5.1TiCxNy薄膜
3.5.5.2纳米超硬复合膜
4薄膜在液相中的化学及电化学制备
4.1薄膜在液相中的化学转化制备
4.1.1化学镀
4.1.1.1化学镀镍
4.1.1.2化学镀铜
4.1.2化学氧化
4.1.2.1钢铁的化学氧化
4.1.2.2有色金属化学氧化
4.1.3钝化
4.1.3.1钝化膜的形成过程
4.1.3.2钝化膜的组成和结构
4.1.3.3钝化工艺
4.1.3.4影响钝化膜质量的因素
4.1.4磷化
4.1.4.1钢铁磷化处理
4.1.4.2有色金属的磷化
4.2薄膜在液相中的电化学转化制备
4.2.1电镀
4.2.1.1基础知识
4.2.1.2电镀金属
4.2.1.3电镀合金
4.2.1.4电刷镀
4.2.1.5非金属材料电镀
4.2.2阳极氧化
4.2.2.1铝阳极氧化膜
4.2.2.2铝阳极氧化机理
4.2.2.3铝阳极氧化工艺
4.2.2.4铝阳极氧化膜的着色和封闭
4.2.2.5阳极氧化法制备氧化铝模板
4.2.2.6其他有色金属阳极氧化
4.2.3微弧氧化
4.2.3.1铝及铝合金的微弧氧化
4.2.3.2钛及钛合金的微弧氧化
4.2.3.3微弧氧化技术的应用现状及前景
参考文献
查看详情
-
薄膜技术与薄膜材料
全新正版书籍,假一罚十(图片为标准图,仅供参考。以标题为准,不了解的可以询问客服。) 可开发票
全新
北京市朝阳区
平均发货19小时
成功完成率94.9%
-
全新
河北省保定市
平均发货27小时
成功完成率83.89%
-
全新
江苏省苏州市
平均发货9小时
成功完成率95.68%
-
全新
河北省保定市
平均发货25小时
成功完成率90.25%
-
全新
江苏省无锡市
平均发货10小时
成功完成率92.91%
-
全新
河北省保定市
平均发货15小时
成功完成率91.16%
-
全新
江苏省南京市
平均发货7小时
成功完成率97.87%
-
全新
江苏省南京市
平均发货16小时
成功完成率82.78%
-
全新
江苏省南京市
平均发货8小时
成功完成率96.57%
-
全新
北京市顺义区
平均发货23小时
成功完成率93.96%
-
全新
北京市通州区
平均发货17小时
成功完成率94.4%
-
全新
天津市河东区
平均发货28小时
成功完成率90.04%
-
全新
北京市西城区
平均发货29小时
成功完成率90.38%
-
全新
上海市闵行区
平均发货32小时
成功完成率79.57%
-
全新
天津市西青区
平均发货14小时
成功完成率90.42%
-
全新
江苏省无锡市
平均发货18小时
成功完成率94.5%
-
全新
北京市通州区
平均发货11小时
成功完成率94.15%
-
全新
北京市朝阳区
平均发货9小时
成功完成率96.75%
-
全新
江苏省无锡市
平均发货18小时
成功完成率92.38%
-
全新
北京市顺义区
平均发货14小时
成功完成率94.29%
-
全新
山东省烟台市
平均发货26小时
成功完成率85.33%
-
薄膜技术与薄膜材料
全新正版书籍,假一罚十(图片为标准图,仅供参考。以标题为准,不了解的可以询问客服。) 可开发票
全新
北京市朝阳区
平均发货17小时
成功完成率96.19%
-
全新
四川省成都市
平均发货61小时
成功完成率83.3%
-
全新
河北省保定市
平均发货28小时
成功完成率91.02%
-
薄膜技术与薄膜材料(
全新正版书籍,假一罚十(图片为标准图,仅供参考。以标题为准,不了解的可以询问客服。) 可开发票
全新
北京市朝阳区
平均发货19小时
成功完成率94.9%
-
全新
天津市西青区
平均发货14小时
成功完成率90.42%
-
全新
北京市西城区
平均发货28小时
成功完成率88.4%
-
全新
河北省保定市
平均发货23小时
成功完成率90.42%
-
九品
北京市昌平区
平均发货23小时
成功完成率86.22%
-
全新
河北省保定市
平均发货25小时
成功完成率90.25%
-
薄膜技术与薄膜材料(
全新正版书籍,假一罚十(图片为标准图,仅供参考。以标题为准,不了解的可以询问客服。) 可开发票
全新
北京市朝阳区
平均发货17小时
成功完成率96.19%
-
全新
北京市丰台区
平均发货23小时
成功完成率88.44%
-
全新
北京市丰台区
平均发货26小时
成功完成率91.54%
-
全新
北京市房山区
平均发货13小时
成功完成率88.89%
-
薄膜技术与薄膜材料
部分图书软件采集的图片与文字介绍不符,请以文字描述为准,自动忽略图片。
全新
河北省保定市
平均发货38小时
成功完成率81.87%
-
全新
河北省保定市
平均发货23小时
成功完成率90.59%
-
八五品
重庆市沙坪坝区
平均发货11小时
成功完成率91.19%
-
全新
浙江省嘉兴市
平均发货10小时
成功完成率93.87%
-
全新
北京市东城区
平均发货29小时
成功完成率83.9%
-
八五品
四川省成都市
平均发货12小时
成功完成率91.64%
-
全新
江苏省南京市
平均发货16小时
成功完成率82.78%
-
全新
江苏省南京市
平均发货18小时
成功完成率68.1%
-
薄膜技术与薄膜材料
本店所售图书,保证正版新书,有个别图片和实书封面不一样,以实书封面为准,有需要确定的可以联系客服。我店不能开发票。当天下单第二天发货。
全新
四川省成都市
平均发货28小时
成功完成率85.5%
-
全新
河北省保定市
平均发货26小时
成功完成率92.08%
-
全新
江苏省无锡市
平均发货25小时
成功完成率87.66%
-
薄膜技术与薄膜材料
按标题名购买,批量下载图片有时不对应,多本图片为其中一本,有问题请联系客服。
全新
河北省保定市
平均发货25小时
成功完成率90.25%
-
全新
北京市房山区
平均发货25小时
成功完成率86.57%
-
全新
北京市通州区
平均发货10小时
成功完成率88.57%
-
薄膜技术与薄膜材料
正版库存新书☞无阅读划线☞图片与标题不符时以标题为主☞套书售价较底的为单册价。
全新
河北省廊坊市
平均发货17小时
成功完成率82.44%
-
八五品
河南省平顶山市
平均发货7小时
成功完成率93.18%