高级电子封装(原书第2版)

高级电子封装(原书第2版)
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作者: , , [美] , [美] ,
2010-05
版次: 1
ISBN: 9787111296263
定价: 128.00
装帧: 平装
开本: 16开
纸张: 胶版纸
页数: 636页
字数: 943千字
正文语种: 简体中文
原版书名: Advanced Electronic Packaging (2nd Edition)
分类: 工程技术
32人买过
  •   《高级电子封装(原书第2版)》系统地介绍了电子封装的相关知识,涵盖了封装材料与应用、原料分析技术、封装制造技术、基片技术、电气考虑因素、机械设计考虑因素、热考虑因素、封装设计、封装建模、封装仿真、集成无源器件、微机电系统封装、射频和微波封装、可靠性考虑因素、成本评估与分析、三维封装等方面知识。《高级电子封装(原书第2版)》从理论到实践、深入浅出地讲解了电子封装的知识,为广大科技工作者、工程技术人员、研究人员提供了一本理想的参考书。
      《高级电子封装(原书第2版)》适用于微电子、电子元器件、半导体、材料、计算机与通信、化工、机械、塑料加工等各个领域的人员阅读。可作为相关专业本科生、研究生的教材,也可作为广大科技工作者、工程技术人员的参考书。   RichardK.Ulrich博士是阿肯色大学化学工程的一名教授。他是一名书籍编辑和嵌入式无源技术的专栏作家、NEMI学会成员、IEEE高级封装会刊的副编辑,他过去曾任电化学学会电介质科学和技术分部的主席。
      WilliamD.Brown博士是阿肯色大学电子工程学院研究部副主任、电子工程的杰出教授。自1991年以来,在大学高密度电子中心(HiDEC)的研究发起和引导中扮演了一个活跃的角色,该中心专注于推进电子封装材料和技术的最新进展。 译者序
    第2版前言
    第1章微电子封装的导言和概览1
    1.1概述1
    1.2电子封装功能2
    1.3封装等级结构2
    1.3.1晶片贴装4
    1.3.2第一等级互连4
    1.3.3封装盖和引脚密封5
    1.3.4第二等级互连6
    1.4微电子封装技术简史6
    1.5封装技术的驱动力14
    1.5.1制造成本14
    1.5.2可制造性成本15
    1.5.3尺寸和重量15
    1.5.4电子设计15
    1.5.5热设计15
    1.5.6力学性能设计16
    1.5.7可制造性设计16
    1.5.8可测试性设计16
    1.5.9可靠性设计17
    1.5.10可服务性设计17
    1.5.11材料选择17
    1.6小结18
    参考文献19
    习题20

    第2章微电子封装材料22
    2.1概述22
    2.2一些重要的封装材料性质22
    2.2.1力学性能22
    2.2.2湿气渗透23
    2.2.3界面的粘滞性23
    2.2.4电气性能24
    2.2.5热性质25
    2.2.6化学性质26
    2.2.7系统可靠性26
    2.3封装中的陶瓷材料27
    2.3.1矾土(Al2O3)29
    2.3.2氧化铍(BeO)30
    2.3.3氮化铝(AlN)31
    2.3.4碳化硅(SiC)31
    2.3.5氮化硼(BN)32
    2.3.6玻璃陶瓷32
    2.4封装中的聚合物材料33
    2.4.1聚合物的基本知识33
    2.4.2聚合物的热塑性和热硬性35
    2.4.3水分和溶剂对聚合物的影响36
    2.4.4关注的一些聚合物性质36
    2.4.5微电子中所用聚合物的主要分类39
    2.4.6聚合物的第一等级封装应用43
    2.5封装中的金属材料45
    2.5.1晶片焊接45
    2.5.2芯片到封装或基底46
    2.5.3封装构造50
    2.6高密度互连基片中使用的材料51
    2.6.1层压基片52
    2.6.2陶瓷基片55
    2.6.3沉淀的薄膜基片56
    2.7小结58
    参考文献58
    习题60

    第3章处理技术62
    3.1概述62
    3.2薄膜沉淀62
    3.2.1真空现象62
    3.2.2真空泵63
    3.2.3蒸发65
    3.2.4溅射67
    3.2.5化学蒸气沉淀70
    3.2.6电镀72
    3.3模式化74
    3.3.1光平板印刷74
    3.3.2蚀刻77
    3.4金属间的连接79
    3.4.1固态焊接79
    3.4.2熔焊和铜焊81
    3.5小结82
    参考文献82
    习题83

    第4章有机PCB的材料和处理过程84
    4.1概述84
    4.2所有PCB层构造的普遍问题85
    4.2.1数据格式和规范85
    4.2.2计算机辅助制造和加工85
    4.2.3排版86
    4.2.4层叠材料87
    4.2.5制造容限综述88
    4.3PCB处理流程89
    4.3.1内层的制造91
    4.3.2MLB结构和外层的制造94
    4.3.3电气测试98
    4.3.4视觉和维度检测99
    4.3.5合同评审99
    4.3.6显微薄片分析100
    4.4介电材料101
    4.4.1介电材料的动因101
    4.4.2介电材料的构造与处理考虑因素102
    4.5表面抛光106
    4.6高级PCB结构107
    4.6.1高密度互连接和微型过孔107
    4.7规范和标准113
    4.7.1IPC简史113
    4.7.2有机PCB的相关标准113
    4.8主要术语115
    参考文献118
    习题118

    第5章陶瓷基片121
    5.1电子封装中的陶瓷121
    5.1.1引言和背景121
    5.1.2陶瓷基片的作用121
    5.1.3陶瓷的优势121
    5.1.4陶瓷成分122
    5.1.5陶瓷基片制造122
    5.2陶瓷基片的电气性能123
    5.3陶瓷基片的力学性能124
    5.4陶瓷基片的物理性能125
    5.5设计规则125
    5.6陶瓷上的薄膜126
    5.6.1引言和背景126
    5.6.2沉淀技术126
    5.6.3薄膜基片性质127
    5.7陶瓷上的厚膜127
    5.7.1引言和背景127
    5.7.2丝网准备和检查128
    5.7.3丝网印刷处理129
    5.7.4基片清理和处理环境130
    5.7.5厚膜的形成130
    5.7.6湿粘土的热处理过程131
    5.7.7厚膜的金属化131
    5.7.8厚膜电介质132
    5.7.9厚膜电阻133
    5.8低温共烧陶瓷133
    5.8.1LTCC技术133
    5.8.2绝缘胶带的处理和清洁室环境135
    5.8.3过孔的形成136
    5.8.4过孔的填充138
    5.8.5绝缘胶带材料的丝网印刷考虑因素139
    5.8.6检查140
    5.8.7绝缘胶带层整理140
    5.8.8层压141
    5.8.9烧制142
    5.8.10后处理143
    5.8.11设计考虑因素145
    5.8.12收缩预测与控制145
    5.9HTCC制造过程146
    5.9.1HTCC处理146
    5.9.2多层AIN146
    5.10高电流基片146
    5.10.1直接接合铜处理147
    5.10.2有源金属铜镀148
    5.11小结148
    参考文献149
    习题150

    第6章电气考虑、建模和仿真152
    6.1概述152
    6.1.1仅仅是一根导线吗?152
    6.1.2电气封装的功能152
    6.2基本事项153
    6.2.1电阻153
    6.2.2自感和互感157
    6.2.3电容161
    6.2.4参数提取程序163
    6.3信号完整性和建模163
    6.3.1数字信号的表示和频谱164
    6.3.2驱动器和接收器模型165
    6.3.3RC延迟167
    6.4传输线170
    6.4.1微带传输线174
    6.4.2端接反射175
    6.4.3信号线损耗和集肤效应180
    6.4.4网络拓扑181
    6.5耦合噪声或者串扰182
    6.6电源和地185
    6.6.1动态配电185
    6.6.2电源系统的阻抗186
    6.6.3去耦电容的谐振186
    6.6.4配电建模187
    6.6.5切换噪声188
    6.7总体封装IC模型与仿真191
    6.7.1仿真192
    6.8时域反射测量法192
    6.9小结195
    参考文献195
    习题196

    第7章热考虑因素200
    7.1概述200
    7.1.1热源200
    7.1.2热消除的方法201
    7.1.3故障模式202
    7.2热传递基本原理203
    7.2.1热传递速度方程203
    7.2.2元件的暂态热响应207
    7.2.3各种形状中的传导208
    7.2.4总体热阻213
    7.2.5强制对流热传递216
    7.2.6自然对流热传递223
    7.3空气致冷227
    7.4液体致冷228
    7.4.1单相液体致冷228
    7.4.2双相液体致冷228
    7.5高级致冷方法231
    7.5.1热管致冷231
    7.5.2热电致冷232
    7.5.3微通道致冷233
    7.6计算机辅助模型233
    7.6.1固体模型233
    7.6.2计算流体力学234
    7.6.3去耦合级别234
    7.6.4典型结果234
    7.7小结236
    参考文献236
    附录:热传递计算的热物理属性237
    习题239

    第8章机械设计考虑241
    8.1概述241
    8.2变形与应变241
    8.3应力244
    8.4本构关系247
    8.4.1弹性材料248
    8.4.2塑性材料249
    8.4.3蠕变材料250
    8.5简化形式251
    8.5.1平面应力和平面应变251
    8.5.2梁问题252
    8.6失效理论256
    8.6.1静态失效256
    8.6.2断裂力学259
    8.6.3疲劳259
    8.7确定应力的分析方法261
    8.7.1双材料组的轴向效应261
    8.7.2双材料组的弯曲效应265
    8.7.3剥离应力266
    8.7.4三材料组268
    8.8数值方法271
    8.8.1有限元方法271
    8.8.2商业代码274
    8.8.3局限和危害276
    8.9小结276
    参考文献277
    参考书目277
    习题278

    第9章分立和嵌入式无源元件283
    9.1概述283
    9.2现代电子系统中的无源元件284
    9.3无源元件的定义和结构288
    9.4基于薄膜的无源元件289
    9.5电阻器291
    9.5.1设计方程291
    9.5.2胶料嵌入式电阻器293
    9.5.3电阻器的材料294
    9.6电容器295
    9.6.1顺电体和铁电体297
    9.6.2电介质尺寸设计299
    9.6.3用于电容器的电介质材料300
    9.7电感器302
    9.8无源元件的电气特性303
    9.8.1理想无源元件的建模304
    9.8.2实际电容器的建模304
    9.8.3分立和嵌入电容器中寄生效应的差别305
    9.8.4实际电感器的建模307
    9.8.5实际电阻器的建模308
    9.9嵌入无源元件时的问题308
    9.9.1嵌入无源元件的原因308
    9.9.2嵌入无源元件的问题310
    9.10去耦电容器311
    9.10.1去耦问题311
    9.10.2分立电容器的去耦311
    9.10.3嵌入式电容器的去耦312
    9.11无源元件的未来313
    参考文献314
    习题314

    第10章电子封装的装配316
    10.1概述316
    10.2设施317
    10.2.1清洁室要求317
    10.2.2静电放电要求318
    10.2.3湿敏度级别要求318
    10.2.4回流焊温度319
    10.3元件的处理319
    10.3.1运送319
    10.3.2保存320
    10.3.3处理320
    10.4表面贴装技术装配321
    10.4.1焊料印制过程以及相关缺陷321
    10.4.2元件放置322
    10.4.3回流焊323
    10.4.4净化324
    10.5晶圆准备324
    10.5.1晶圆探测324
    10.5.2晶圆安装325
    10.5.3晶圆背面研磨/减薄325
    10.5.4晶圆锯割326
    10.5.5晶圆划线327
    10.5.6相关装备327
    10.6晶粒贴附328
    10.6.1环氧树脂328
    10.6.2热塑性材料和热固性树脂329
    10.6.3焊料330
    10.6.4返工330
    10.6.5晶粒贴附装备331
    10.7线焊331
    10.7.1热压缩线焊332
    10.7.2超声线焊332
    10.7.3热超声线焊332
    10.7.4带焊接332
    10.7.5球焊333
    10.7.6楔焊333
    10.7.7线焊测试334
    10.7.8带状自动化焊接336
    10.7.9等离子表面处理337
    10.8倒装芯片338
    10.8.1晶圆凸点339
    10.8.2助焊342
    10.9封装/密封/包装344
    10.9.1密封封装344
    10.9.2密封封装测试345
    10.9.3非密封包装345
    10.10封装级别处理348
    10.10.1引脚修整、成形以及分离348
    10.10.2焊球贴附和分离348
    10.10.3标记348
    10.11艺术级技术348
    10.11.13D和堆栈晶粒348
    10.11.2射频模块349
    10.11.3微电子机械系统和微光电子机械系统350
    10.11.4纳米技术351
    10.12小结352
    参考文献352
    习题352

    第11章设计考虑354
    11.1概述354
    11.2封装和电子系统354
    11.2.1封装功能354
    11.2.2系统和封装度量355
    11.2.3系统约束和折中356
    11.2.4系统划分358
    11.3封装功能间的折中360
    11.3.1信号线路360
    11.3.2配电366
    11.3.3热管理368
    11.3.4互连测试369
    11.4折中设计例子370
    11.5产品开发周期372
    11.5.1传统和修正的产品周期372
    11.5.2市场分析和产品规格374
    11.5.3框图和划分374
    11.5.4技术选择375
    11.5.5ASIC/PCB/MCM设计375
    11.5.6热/机械设计376
    11.5.7测试程序的开发376
    11.5.8制造工具开发377
    11.5.9制造/装配377
    11.5.10鉴定377
    11.5.11品质377
    11.5.12产品引入378
    11.6设计概念378
    11.6.1元件回顾378
    11.6.2原理图概述380
    11.6.3设计视图383
    11.6.4反向标注383
    11.6.5仿真和评估384
    11.7PCB/MCM设计过程384
    11.7.1PCB设计流程385
    11.7.2库385
    11.7.3封装386
    11.7.4布线387
    11.7.5Fablink388
    11.7.6设计概念小结389
    11.8小结390
    参考文献390
    软件手册391
    习题391

    第12章射频和微波封装392
    12.1概述与背景392
    12.1.1高频电路的本质392
    12.1.2高频电路应用393
    12.1.3基本概念394
    12.2传输线397
    12.2.1传输线模型398
    12.2.2系统级传输线399
    12.2.3平面传输线401
    12.2.4不连续性406
    12.3高频电路的实现410
    12.3.1材料的考虑410
    12.3.2微波单片集成电路412
    12.3.3MIC技术413
    12.4集总元件414
    12.4.1电容器414
    12.4.2电感器415
    12.4.3电阻器和端结416
    12.5分布式元件416
    12.5.1阻抗匹配设备417
    12.5.2滤波器417
    12.5.3功率分配器418
    12.5.4耦合器419
    12.6仿真和电路布局420
    12.7测量和测试421
    12.8频域测量421
    12.8.1测量系统422
    12.8.2探测硬件和连接器423
    12.9时域测量424
    12.10设计例子424
    12.11小结427
    参考文献427
    习题431

    第13章电力电子器件封装432
    13.1概述432
    13.2电力半导体器件技术432
    13.2.1理想和非理想的电力开关432
    13.2.2功率二极管435
    13.2.3晶闸管435
    13.2.4功率双极型晶体管436
    13.2.5金属氧化物半导体功率场效应晶体管436
    13.2.6绝缘栅双极型晶体管436
    13.2.7静电感应晶体管436
    13.2.8SiC半导体器件437
    13.3商用功率封装439
    13.3.1分立功率器件封装439
    13.3.2多芯片功率模块和一体化集成方案442
    13.3.3商用封装的热性能443
    13.4功率封装设计方法449
    13.4.1整体系统设计方法450
    13.4.2基底的选择452
    13.4.3基片和散热器的选择452
    13.4.4芯片的焊接方法453
    13.4.5键合457
    13.4.6热设计459
    13.4.7电磁干扰和电磁兼容461
    13.4.8高温电力电子器件461
    13.5小结462
    参考文献462
    习题464

    第14章多芯片和三维封装466
    14.1概述466
    14.1.1多芯片封装的历史回顾466
    14.1.2多芯片封装的动力467
    14.2封装层次和分类470
    14.2.1层次470
    14.2.2MCM剖析470
    14.2.3平面MCM方法472
    14.33D系统477
    14.3.13D系统的特征477
    14.3.2芯片和封装堆叠480
    14.3.3MCM堆叠482
    14.3.4折叠方法483
    14.4多芯片封装的选择484
    14.4.1产量/已知的合格芯片484
    14.4.2工艺兼容性485
    14.4.32D和3D封装的密度度量485
    14.4.4走线密度485
    14.4.5输入/输出486
    14.4.6电气性能和基片选择488
    14.4.7热管理489
    14.4.8可测试性490
    14.4.9封装系统与片上系统490
    14.5密度缩放的趋势491
    14.5.1对于规则的或较少引脚的装配492
    14.5.2中等复杂引脚的装配方法1493
    14.5.3中等复杂引脚的装配方法2493
    14.5.4高密度封装的问题494
    14.6小结495
    参考文献496
    习题496

    第15章MEMS和MOEMS的封装:
    挑战与案例研究498
    15.1概述498
    15.2背景498
    15.2.1混合信号、混合域、混合级封装:向下一代专用集成系统发展498
    15.2.2MEMS499
    15.3MEMS集成的挑战500
    15.3.1释放和粘附502
    15.3.2切割502
    15.3.3芯片处理503
    15.3.4晶圆级封装503
    15.3.5应力503
    15.3.6气密性504
    15.3.7测试504
    15.3.8MEMS封装中的艺术504
    15.3.9未来方向506
    15.4数字微镜器件的封装方法506
    15.4.1MOEMS和特殊DMD的背景介绍506
    15.4.2影响DMD封装的因素508
    15.4.3DMD封装设计509
    15.4.4DMD气密封装装配513
    15.5封装技术的未来挑战514
    致谢515
    参考文献515
    习题517

    第16章可靠性分析518
    16.1概述518
    16.1.1概念定义518
    16.1.2失效模式520
    16.1.3本章涉及内容521
    16.2失效机理521
    16.2.1腐蚀522
    16.2.2机械应力524
    16.2.3电应力525
    16.2.4故障分析技术525
    16.3加速测试527
    16.3.1加速环境测试528
    16.3.2静电荷释放加速测试530
    16.3.3其他加速测试531
    16.3.4测试结构532
    16.4可靠性衡量532
    16.4.1失效率、MTBF和FIT532
    16.4.2可靠性函数533
    16.4.3Weibull分布537
    16.4.4正态分布540
    16.4.5失效分布图和浴盆曲线542
    16.5微电子系统的失效统计542
    16.5.1复合式失效模式组件的失效预测544
    16.6微电子学的可靠性科学在工业中的应用545
    参考文献545
    习题545

    第17章成本评估和分析551
    17.1概述551
    17.2产品成本551
    17.2.1直接成本551
    17.2.2间接成本552
    17.2.3传统的基于批量的成本估算552
    17.2.4基于活动的成本估算553
    17.3盈亏平衡分析555
    17.3.1线性均衡分析555
    17.3.2分段线性均衡分析557
    17.4学习曲线关系557
    17.4.1确定提升速率的指数值558
    17.4.2学习曲线实例559
    17.5预测模型560
    17.5.1方均差(MSE)562
    17.5.2均值绝对差(MAD)562
    17.5.3均值百分比误差(MPE)562
    17.5.4均值绝对百分比误差(MAPE)562
    17.5.5移动平均563
    17.5.6基于历史数据的预测销售564
    17.5.7指数平滑565
    17.5.8最小二乘回归570
    17.6比较分析571
    17.6.1资金项目选择和评估572
    17.6.2替代分析573
    17.7灵敏度分析574
    17.7.1单参数灵敏度分析575
    17.7.2乐观悲观灵敏度分析575
    17.8小结577
    参考文献577
    习题578

    第18章材料特性的分析技术581
    18.1概述581
    18.2X光衍射582
    18.2.1综述582
    18.2.2基本原理583
    18.2.3检测仪器584
    18.2.4实际中的考虑因素和应用585
    18.3拉曼光谱学588
    18.3.1综述588
    18.3.2基本原理588
    18.3.3检测仪器589
    18.3.4实际中的考虑因素和应用589
    18.4扫描探测显微镜592
    18.4.1综述592
    18.4.2STM原理和检测方法593
    18.4.3SFM原理和检测方法593
    18.4.4实际中的考虑因素和应用594
    18.5扫描电子显微镜和能量散射X光分光镜596
    18.5.1综述596
    18.5.2基本原理597
    18.5.3检测仪器597
    18.5.4实际中的考虑因素和应用599
    18.6共焦显微镜600
    18.6.1综述601
    18.6.2基本原理601
    18.6.3检测仪器601
    18.6.4实际中的考虑因素和应用602
    18.7Auger电子光谱学603
    18.7.1综述603
    18.7.2基本原理603
    18.7.3检测仪器607
    18.7.4实际中的考虑因素和应用609
    18.8X光光电子光谱学613
    18.8.1综述614
    18.8.2基本原理614
    18.8.3检测仪器616
    18.8.4实际中的考虑因素和应用617
    18.9二次离子质量光谱学621
    18.9.1综述621
    18.9.2基本原理621
    18.9.3检测仪器624
    18.9.4实际中的考虑因素和应用628
    参考文献631
    习题635
  • 内容简介:
      《高级电子封装(原书第2版)》系统地介绍了电子封装的相关知识,涵盖了封装材料与应用、原料分析技术、封装制造技术、基片技术、电气考虑因素、机械设计考虑因素、热考虑因素、封装设计、封装建模、封装仿真、集成无源器件、微机电系统封装、射频和微波封装、可靠性考虑因素、成本评估与分析、三维封装等方面知识。《高级电子封装(原书第2版)》从理论到实践、深入浅出地讲解了电子封装的知识,为广大科技工作者、工程技术人员、研究人员提供了一本理想的参考书。
      《高级电子封装(原书第2版)》适用于微电子、电子元器件、半导体、材料、计算机与通信、化工、机械、塑料加工等各个领域的人员阅读。可作为相关专业本科生、研究生的教材,也可作为广大科技工作者、工程技术人员的参考书。
  • 作者简介:
      RichardK.Ulrich博士是阿肯色大学化学工程的一名教授。他是一名书籍编辑和嵌入式无源技术的专栏作家、NEMI学会成员、IEEE高级封装会刊的副编辑,他过去曾任电化学学会电介质科学和技术分部的主席。
      WilliamD.Brown博士是阿肯色大学电子工程学院研究部副主任、电子工程的杰出教授。自1991年以来,在大学高密度电子中心(HiDEC)的研究发起和引导中扮演了一个活跃的角色,该中心专注于推进电子封装材料和技术的最新进展。
  • 目录:
    译者序
    第2版前言
    第1章微电子封装的导言和概览1
    1.1概述1
    1.2电子封装功能2
    1.3封装等级结构2
    1.3.1晶片贴装4
    1.3.2第一等级互连4
    1.3.3封装盖和引脚密封5
    1.3.4第二等级互连6
    1.4微电子封装技术简史6
    1.5封装技术的驱动力14
    1.5.1制造成本14
    1.5.2可制造性成本15
    1.5.3尺寸和重量15
    1.5.4电子设计15
    1.5.5热设计15
    1.5.6力学性能设计16
    1.5.7可制造性设计16
    1.5.8可测试性设计16
    1.5.9可靠性设计17
    1.5.10可服务性设计17
    1.5.11材料选择17
    1.6小结18
    参考文献19
    习题20

    第2章微电子封装材料22
    2.1概述22
    2.2一些重要的封装材料性质22
    2.2.1力学性能22
    2.2.2湿气渗透23
    2.2.3界面的粘滞性23
    2.2.4电气性能24
    2.2.5热性质25
    2.2.6化学性质26
    2.2.7系统可靠性26
    2.3封装中的陶瓷材料27
    2.3.1矾土(Al2O3)29
    2.3.2氧化铍(BeO)30
    2.3.3氮化铝(AlN)31
    2.3.4碳化硅(SiC)31
    2.3.5氮化硼(BN)32
    2.3.6玻璃陶瓷32
    2.4封装中的聚合物材料33
    2.4.1聚合物的基本知识33
    2.4.2聚合物的热塑性和热硬性35
    2.4.3水分和溶剂对聚合物的影响36
    2.4.4关注的一些聚合物性质36
    2.4.5微电子中所用聚合物的主要分类39
    2.4.6聚合物的第一等级封装应用43
    2.5封装中的金属材料45
    2.5.1晶片焊接45
    2.5.2芯片到封装或基底46
    2.5.3封装构造50
    2.6高密度互连基片中使用的材料51
    2.6.1层压基片52
    2.6.2陶瓷基片55
    2.6.3沉淀的薄膜基片56
    2.7小结58
    参考文献58
    习题60

    第3章处理技术62
    3.1概述62
    3.2薄膜沉淀62
    3.2.1真空现象62
    3.2.2真空泵63
    3.2.3蒸发65
    3.2.4溅射67
    3.2.5化学蒸气沉淀70
    3.2.6电镀72
    3.3模式化74
    3.3.1光平板印刷74
    3.3.2蚀刻77
    3.4金属间的连接79
    3.4.1固态焊接79
    3.4.2熔焊和铜焊81
    3.5小结82
    参考文献82
    习题83

    第4章有机PCB的材料和处理过程84
    4.1概述84
    4.2所有PCB层构造的普遍问题85
    4.2.1数据格式和规范85
    4.2.2计算机辅助制造和加工85
    4.2.3排版86
    4.2.4层叠材料87
    4.2.5制造容限综述88
    4.3PCB处理流程89
    4.3.1内层的制造91
    4.3.2MLB结构和外层的制造94
    4.3.3电气测试98
    4.3.4视觉和维度检测99
    4.3.5合同评审99
    4.3.6显微薄片分析100
    4.4介电材料101
    4.4.1介电材料的动因101
    4.4.2介电材料的构造与处理考虑因素102
    4.5表面抛光106
    4.6高级PCB结构107
    4.6.1高密度互连接和微型过孔107
    4.7规范和标准113
    4.7.1IPC简史113
    4.7.2有机PCB的相关标准113
    4.8主要术语115
    参考文献118
    习题118

    第5章陶瓷基片121
    5.1电子封装中的陶瓷121
    5.1.1引言和背景121
    5.1.2陶瓷基片的作用121
    5.1.3陶瓷的优势121
    5.1.4陶瓷成分122
    5.1.5陶瓷基片制造122
    5.2陶瓷基片的电气性能123
    5.3陶瓷基片的力学性能124
    5.4陶瓷基片的物理性能125
    5.5设计规则125
    5.6陶瓷上的薄膜126
    5.6.1引言和背景126
    5.6.2沉淀技术126
    5.6.3薄膜基片性质127
    5.7陶瓷上的厚膜127
    5.7.1引言和背景127
    5.7.2丝网准备和检查128
    5.7.3丝网印刷处理129
    5.7.4基片清理和处理环境130
    5.7.5厚膜的形成130
    5.7.6湿粘土的热处理过程131
    5.7.7厚膜的金属化131
    5.7.8厚膜电介质132
    5.7.9厚膜电阻133
    5.8低温共烧陶瓷133
    5.8.1LTCC技术133
    5.8.2绝缘胶带的处理和清洁室环境135
    5.8.3过孔的形成136
    5.8.4过孔的填充138
    5.8.5绝缘胶带材料的丝网印刷考虑因素139
    5.8.6检查140
    5.8.7绝缘胶带层整理140
    5.8.8层压141
    5.8.9烧制142
    5.8.10后处理143
    5.8.11设计考虑因素145
    5.8.12收缩预测与控制145
    5.9HTCC制造过程146
    5.9.1HTCC处理146
    5.9.2多层AIN146
    5.10高电流基片146
    5.10.1直接接合铜处理147
    5.10.2有源金属铜镀148
    5.11小结148
    参考文献149
    习题150

    第6章电气考虑、建模和仿真152
    6.1概述152
    6.1.1仅仅是一根导线吗?152
    6.1.2电气封装的功能152
    6.2基本事项153
    6.2.1电阻153
    6.2.2自感和互感157
    6.2.3电容161
    6.2.4参数提取程序163
    6.3信号完整性和建模163
    6.3.1数字信号的表示和频谱164
    6.3.2驱动器和接收器模型165
    6.3.3RC延迟167
    6.4传输线170
    6.4.1微带传输线174
    6.4.2端接反射175
    6.4.3信号线损耗和集肤效应180
    6.4.4网络拓扑181
    6.5耦合噪声或者串扰182
    6.6电源和地185
    6.6.1动态配电185
    6.6.2电源系统的阻抗186
    6.6.3去耦电容的谐振186
    6.6.4配电建模187
    6.6.5切换噪声188
    6.7总体封装IC模型与仿真191
    6.7.1仿真192
    6.8时域反射测量法192
    6.9小结195
    参考文献195
    习题196

    第7章热考虑因素200
    7.1概述200
    7.1.1热源200
    7.1.2热消除的方法201
    7.1.3故障模式202
    7.2热传递基本原理203
    7.2.1热传递速度方程203
    7.2.2元件的暂态热响应207
    7.2.3各种形状中的传导208
    7.2.4总体热阻213
    7.2.5强制对流热传递216
    7.2.6自然对流热传递223
    7.3空气致冷227
    7.4液体致冷228
    7.4.1单相液体致冷228
    7.4.2双相液体致冷228
    7.5高级致冷方法231
    7.5.1热管致冷231
    7.5.2热电致冷232
    7.5.3微通道致冷233
    7.6计算机辅助模型233
    7.6.1固体模型233
    7.6.2计算流体力学234
    7.6.3去耦合级别234
    7.6.4典型结果234
    7.7小结236
    参考文献236
    附录:热传递计算的热物理属性237
    习题239

    第8章机械设计考虑241
    8.1概述241
    8.2变形与应变241
    8.3应力244
    8.4本构关系247
    8.4.1弹性材料248
    8.4.2塑性材料249
    8.4.3蠕变材料250
    8.5简化形式251
    8.5.1平面应力和平面应变251
    8.5.2梁问题252
    8.6失效理论256
    8.6.1静态失效256
    8.6.2断裂力学259
    8.6.3疲劳259
    8.7确定应力的分析方法261
    8.7.1双材料组的轴向效应261
    8.7.2双材料组的弯曲效应265
    8.7.3剥离应力266
    8.7.4三材料组268
    8.8数值方法271
    8.8.1有限元方法271
    8.8.2商业代码274
    8.8.3局限和危害276
    8.9小结276
    参考文献277
    参考书目277
    习题278

    第9章分立和嵌入式无源元件283
    9.1概述283
    9.2现代电子系统中的无源元件284
    9.3无源元件的定义和结构288
    9.4基于薄膜的无源元件289
    9.5电阻器291
    9.5.1设计方程291
    9.5.2胶料嵌入式电阻器293
    9.5.3电阻器的材料294
    9.6电容器295
    9.6.1顺电体和铁电体297
    9.6.2电介质尺寸设计299
    9.6.3用于电容器的电介质材料300
    9.7电感器302
    9.8无源元件的电气特性303
    9.8.1理想无源元件的建模304
    9.8.2实际电容器的建模304
    9.8.3分立和嵌入电容器中寄生效应的差别305
    9.8.4实际电感器的建模307
    9.8.5实际电阻器的建模308
    9.9嵌入无源元件时的问题308
    9.9.1嵌入无源元件的原因308
    9.9.2嵌入无源元件的问题310
    9.10去耦电容器311
    9.10.1去耦问题311
    9.10.2分立电容器的去耦311
    9.10.3嵌入式电容器的去耦312
    9.11无源元件的未来313
    参考文献314
    习题314

    第10章电子封装的装配316
    10.1概述316
    10.2设施317
    10.2.1清洁室要求317
    10.2.2静电放电要求318
    10.2.3湿敏度级别要求318
    10.2.4回流焊温度319
    10.3元件的处理319
    10.3.1运送319
    10.3.2保存320
    10.3.3处理320
    10.4表面贴装技术装配321
    10.4.1焊料印制过程以及相关缺陷321
    10.4.2元件放置322
    10.4.3回流焊323
    10.4.4净化324
    10.5晶圆准备324
    10.5.1晶圆探测324
    10.5.2晶圆安装325
    10.5.3晶圆背面研磨/减薄325
    10.5.4晶圆锯割326
    10.5.5晶圆划线327
    10.5.6相关装备327
    10.6晶粒贴附328
    10.6.1环氧树脂328
    10.6.2热塑性材料和热固性树脂329
    10.6.3焊料330
    10.6.4返工330
    10.6.5晶粒贴附装备331
    10.7线焊331
    10.7.1热压缩线焊332
    10.7.2超声线焊332
    10.7.3热超声线焊332
    10.7.4带焊接332
    10.7.5球焊333
    10.7.6楔焊333
    10.7.7线焊测试334
    10.7.8带状自动化焊接336
    10.7.9等离子表面处理337
    10.8倒装芯片338
    10.8.1晶圆凸点339
    10.8.2助焊342
    10.9封装/密封/包装344
    10.9.1密封封装344
    10.9.2密封封装测试345
    10.9.3非密封包装345
    10.10封装级别处理348
    10.10.1引脚修整、成形以及分离348
    10.10.2焊球贴附和分离348
    10.10.3标记348
    10.11艺术级技术348
    10.11.13D和堆栈晶粒348
    10.11.2射频模块349
    10.11.3微电子机械系统和微光电子机械系统350
    10.11.4纳米技术351
    10.12小结352
    参考文献352
    习题352

    第11章设计考虑354
    11.1概述354
    11.2封装和电子系统354
    11.2.1封装功能354
    11.2.2系统和封装度量355
    11.2.3系统约束和折中356
    11.2.4系统划分358
    11.3封装功能间的折中360
    11.3.1信号线路360
    11.3.2配电366
    11.3.3热管理368
    11.3.4互连测试369
    11.4折中设计例子370
    11.5产品开发周期372
    11.5.1传统和修正的产品周期372
    11.5.2市场分析和产品规格374
    11.5.3框图和划分374
    11.5.4技术选择375
    11.5.5ASIC/PCB/MCM设计375
    11.5.6热/机械设计376
    11.5.7测试程序的开发376
    11.5.8制造工具开发377
    11.5.9制造/装配377
    11.5.10鉴定377
    11.5.11品质377
    11.5.12产品引入378
    11.6设计概念378
    11.6.1元件回顾378
    11.6.2原理图概述380
    11.6.3设计视图383
    11.6.4反向标注383
    11.6.5仿真和评估384
    11.7PCB/MCM设计过程384
    11.7.1PCB设计流程385
    11.7.2库385
    11.7.3封装386
    11.7.4布线387
    11.7.5Fablink388
    11.7.6设计概念小结389
    11.8小结390
    参考文献390
    软件手册391
    习题391

    第12章射频和微波封装392
    12.1概述与背景392
    12.1.1高频电路的本质392
    12.1.2高频电路应用393
    12.1.3基本概念394
    12.2传输线397
    12.2.1传输线模型398
    12.2.2系统级传输线399
    12.2.3平面传输线401
    12.2.4不连续性406
    12.3高频电路的实现410
    12.3.1材料的考虑410
    12.3.2微波单片集成电路412
    12.3.3MIC技术413
    12.4集总元件414
    12.4.1电容器414
    12.4.2电感器415
    12.4.3电阻器和端结416
    12.5分布式元件416
    12.5.1阻抗匹配设备417
    12.5.2滤波器417
    12.5.3功率分配器418
    12.5.4耦合器419
    12.6仿真和电路布局420
    12.7测量和测试421
    12.8频域测量421
    12.8.1测量系统422
    12.8.2探测硬件和连接器423
    12.9时域测量424
    12.10设计例子424
    12.11小结427
    参考文献427
    习题431

    第13章电力电子器件封装432
    13.1概述432
    13.2电力半导体器件技术432
    13.2.1理想和非理想的电力开关432
    13.2.2功率二极管435
    13.2.3晶闸管435
    13.2.4功率双极型晶体管436
    13.2.5金属氧化物半导体功率场效应晶体管436
    13.2.6绝缘栅双极型晶体管436
    13.2.7静电感应晶体管436
    13.2.8SiC半导体器件437
    13.3商用功率封装439
    13.3.1分立功率器件封装439
    13.3.2多芯片功率模块和一体化集成方案442
    13.3.3商用封装的热性能443
    13.4功率封装设计方法449
    13.4.1整体系统设计方法450
    13.4.2基底的选择452
    13.4.3基片和散热器的选择452
    13.4.4芯片的焊接方法453
    13.4.5键合457
    13.4.6热设计459
    13.4.7电磁干扰和电磁兼容461
    13.4.8高温电力电子器件461
    13.5小结462
    参考文献462
    习题464

    第14章多芯片和三维封装466
    14.1概述466
    14.1.1多芯片封装的历史回顾466
    14.1.2多芯片封装的动力467
    14.2封装层次和分类470
    14.2.1层次470
    14.2.2MCM剖析470
    14.2.3平面MCM方法472
    14.33D系统477
    14.3.13D系统的特征477
    14.3.2芯片和封装堆叠480
    14.3.3MCM堆叠482
    14.3.4折叠方法483
    14.4多芯片封装的选择484
    14.4.1产量/已知的合格芯片484
    14.4.2工艺兼容性485
    14.4.32D和3D封装的密度度量485
    14.4.4走线密度485
    14.4.5输入/输出486
    14.4.6电气性能和基片选择488
    14.4.7热管理489
    14.4.8可测试性490
    14.4.9封装系统与片上系统490
    14.5密度缩放的趋势491
    14.5.1对于规则的或较少引脚的装配492
    14.5.2中等复杂引脚的装配方法1493
    14.5.3中等复杂引脚的装配方法2493
    14.5.4高密度封装的问题494
    14.6小结495
    参考文献496
    习题496

    第15章MEMS和MOEMS的封装:
    挑战与案例研究498
    15.1概述498
    15.2背景498
    15.2.1混合信号、混合域、混合级封装:向下一代专用集成系统发展498
    15.2.2MEMS499
    15.3MEMS集成的挑战500
    15.3.1释放和粘附502
    15.3.2切割502
    15.3.3芯片处理503
    15.3.4晶圆级封装503
    15.3.5应力503
    15.3.6气密性504
    15.3.7测试504
    15.3.8MEMS封装中的艺术504
    15.3.9未来方向506
    15.4数字微镜器件的封装方法506
    15.4.1MOEMS和特殊DMD的背景介绍506
    15.4.2影响DMD封装的因素508
    15.4.3DMD封装设计509
    15.4.4DMD气密封装装配513
    15.5封装技术的未来挑战514
    致谢515
    参考文献515
    习题517

    第16章可靠性分析518
    16.1概述518
    16.1.1概念定义518
    16.1.2失效模式520
    16.1.3本章涉及内容521
    16.2失效机理521
    16.2.1腐蚀522
    16.2.2机械应力524
    16.2.3电应力525
    16.2.4故障分析技术525
    16.3加速测试527
    16.3.1加速环境测试528
    16.3.2静电荷释放加速测试530
    16.3.3其他加速测试531
    16.3.4测试结构532
    16.4可靠性衡量532
    16.4.1失效率、MTBF和FIT532
    16.4.2可靠性函数533
    16.4.3Weibull分布537
    16.4.4正态分布540
    16.4.5失效分布图和浴盆曲线542
    16.5微电子系统的失效统计542
    16.5.1复合式失效模式组件的失效预测544
    16.6微电子学的可靠性科学在工业中的应用545
    参考文献545
    习题545

    第17章成本评估和分析551
    17.1概述551
    17.2产品成本551
    17.2.1直接成本551
    17.2.2间接成本552
    17.2.3传统的基于批量的成本估算552
    17.2.4基于活动的成本估算553
    17.3盈亏平衡分析555
    17.3.1线性均衡分析555
    17.3.2分段线性均衡分析557
    17.4学习曲线关系557
    17.4.1确定提升速率的指数值558
    17.4.2学习曲线实例559
    17.5预测模型560
    17.5.1方均差(MSE)562
    17.5.2均值绝对差(MAD)562
    17.5.3均值百分比误差(MPE)562
    17.5.4均值绝对百分比误差(MAPE)562
    17.5.5移动平均563
    17.5.6基于历史数据的预测销售564
    17.5.7指数平滑565
    17.5.8最小二乘回归570
    17.6比较分析571
    17.6.1资金项目选择和评估572
    17.6.2替代分析573
    17.7灵敏度分析574
    17.7.1单参数灵敏度分析575
    17.7.2乐观悲观灵敏度分析575
    17.8小结577
    参考文献577
    习题578

    第18章材料特性的分析技术581
    18.1概述581
    18.2X光衍射582
    18.2.1综述582
    18.2.2基本原理583
    18.2.3检测仪器584
    18.2.4实际中的考虑因素和应用585
    18.3拉曼光谱学588
    18.3.1综述588
    18.3.2基本原理588
    18.3.3检测仪器589
    18.3.4实际中的考虑因素和应用589
    18.4扫描探测显微镜592
    18.4.1综述592
    18.4.2STM原理和检测方法593
    18.4.3SFM原理和检测方法593
    18.4.4实际中的考虑因素和应用594
    18.5扫描电子显微镜和能量散射X光分光镜596
    18.5.1综述596
    18.5.2基本原理597
    18.5.3检测仪器597
    18.5.4实际中的考虑因素和应用599
    18.6共焦显微镜600
    18.6.1综述601
    18.6.2基本原理601
    18.6.3检测仪器601
    18.6.4实际中的考虑因素和应用602
    18.7Auger电子光谱学603
    18.7.1综述603
    18.7.2基本原理603
    18.7.3检测仪器607
    18.7.4实际中的考虑因素和应用609
    18.8X光光电子光谱学613
    18.8.1综述614
    18.8.2基本原理614
    18.8.3检测仪器616
    18.8.4实际中的考虑因素和应用617
    18.9二次离子质量光谱学621
    18.9.1综述621
    18.9.2基本原理621
    18.9.3检测仪器624
    18.9.4实际中的考虑因素和应用628
    参考文献631
    习题635
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