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实用真空技术

实用真空技术
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作者: 著
出版社: 大连理工大学出版社
2012-07
版次: 1
ISBN: 9787561170359
定价: 50.00
装帧: 平装
开本: 32开
纸张: 胶版纸
页数: 141页
字数: 100千字
正文语种: 简体中文
分类: 工程技术
1 张插图图片
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  • 《实用真空技术》主要内容包括：真空知识概论、真空密封、影响真空度的要素、真空系统、典型的薄膜生长方式。 郭方准，1970年生，理学博士（日本大阪市立大学）.回国前任日本同步辐射光科学中心（SPring-8）研究员，现任大连交通大学教授、中国科学院大连化学物理研究所研究员。
    主要荣誉：中国科学院百人计划（2009）国家千人计划（2010）中国侨联特聘专家（2011）辽宁省攀登学者（2012）
    主要获奖：第七届表面界面和纳米技术国际会议青年科学家奖（2003）日本文部科学大臣奖（2008）
    主要著作：《FrontalSemiconductorResearch》NovaSciencePublishers，Inc.ISBN：1-60021-210-7.（USA2006）. 第1章真空知识概论
    1.1什么是真空
    1.2真空的发现和理论基础
    1.3几个重要的概念
    1.4真空技术的应用

    第2章真空密封
    2.1永久密封
    2.2非永久密封
    2.3真空法兰
    2.4真空导入要素
    2.5波纹管

    第3章影响真空度的要素
    3.1真空检漏
    3.2真空中的材料气体放出
    3.3真空材料的表面净化和抛光
    3.4真空系统的排气计算

    第4章真空系统
    4.1真空系统的构成
    4.2真空腔体
    4.3真空泵
    4.4真空计
    4.5真空阀门
    4.6各种运动导入器
    4.7配管连接元件

    第5章典型的薄膜生长方式
    5.1物理方式成膜（PhysicalVaporDeposition:PVD）
    5.2化学方式成膜（ChemicalVaporDeposition:CVD）
    附录
    参考文献
  • 内容简介:
    《实用真空技术》主要内容包括：真空知识概论、真空密封、影响真空度的要素、真空系统、典型的薄膜生长方式。
  • 作者简介:
    郭方准，1970年生，理学博士（日本大阪市立大学）.回国前任日本同步辐射光科学中心（SPring-8）研究员，现任大连交通大学教授、中国科学院大连化学物理研究所研究员。
    主要荣誉：中国科学院百人计划（2009）国家千人计划（2010）中国侨联特聘专家（2011）辽宁省攀登学者（2012）
    主要获奖：第七届表面界面和纳米技术国际会议青年科学家奖（2003）日本文部科学大臣奖（2008）
    主要著作：《FrontalSemiconductorResearch》NovaSciencePublishers，Inc.ISBN：1-60021-210-7.（USA2006）.
  • 目录:
    第1章真空知识概论
    1.1什么是真空
    1.2真空的发现和理论基础
    1.3几个重要的概念
    1.4真空技术的应用

    第2章真空密封
    2.1永久密封
    2.2非永久密封
    2.3真空法兰
    2.4真空导入要素
    2.5波纹管

    第3章影响真空度的要素
    3.1真空检漏
    3.2真空中的材料气体放出
    3.3真空材料的表面净化和抛光
    3.4真空系统的排气计算

    第4章真空系统
    4.1真空系统的构成
    4.2真空腔体
    4.3真空泵
    4.4真空计
    4.5真空阀门
    4.6各种运动导入器
    4.7配管连接元件

    第5章典型的薄膜生长方式
    5.1物理方式成膜（PhysicalVaporDeposition:PVD）
    5.2化学方式成膜（ChemicalVaporDeposition:CVD）
    附录
    参考文献
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