实用真空技术
出版时间:
2012-07
版次:
1
ISBN:
9787561170359
定价:
50.00
装帧:
平装
开本:
32开
纸张:
胶版纸
页数:
141页
字数:
100千字
正文语种:
简体中文
-
《实用真空技术》主要内容包括：真空知识概论、真空密封、影响真空度的要素、真空系统、典型的薄膜生长方式。 郭方准，1970年生，理学博士（日本大阪市立大学）.回国前任日本同步辐射光科学中心（SPring-8）研究员，现任大连交通大学教授、中国科学院大连化学物理研究所研究员。
主要荣誉：中国科学院百人计划（2009）国家千人计划（2010）中国侨联特聘专家（2011）辽宁省攀登学者（2012）
主要获奖：第七届表面界面和纳米技术国际会议青年科学家奖（2003）日本文部科学大臣奖（2008）
主要著作：《FrontalSemiconductorResearch》NovaSciencePublishers，Inc.ISBN：1-60021-210-7.（USA2006）. 第1章真空知识概论
1.1什么是真空
1.2真空的发现和理论基础
1.3几个重要的概念
1.4真空技术的应用
第2章真空密封
2.1永久密封
2.2非永久密封
2.3真空法兰
2.4真空导入要素
2.5波纹管
第3章影响真空度的要素
3.1真空检漏
3.2真空中的材料气体放出
3.3真空材料的表面净化和抛光
3.4真空系统的排气计算
第4章真空系统
4.1真空系统的构成
4.2真空腔体
4.3真空泵
4.4真空计
4.5真空阀门
4.6各种运动导入器
4.7配管连接元件
第5章典型的薄膜生长方式
5.1物理方式成膜（PhysicalVaporDeposition:PVD）
5.2化学方式成膜（ChemicalVaporDeposition:CVD）
附录
参考文献
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内容简介:
《实用真空技术》主要内容包括：真空知识概论、真空密封、影响真空度的要素、真空系统、典型的薄膜生长方式。
-
作者简介:
郭方准，1970年生，理学博士（日本大阪市立大学）.回国前任日本同步辐射光科学中心（SPring-8）研究员，现任大连交通大学教授、中国科学院大连化学物理研究所研究员。
主要荣誉：中国科学院百人计划（2009）国家千人计划（2010）中国侨联特聘专家（2011）辽宁省攀登学者（2012）
主要获奖：第七届表面界面和纳米技术国际会议青年科学家奖（2003）日本文部科学大臣奖（2008）
主要著作：《FrontalSemiconductorResearch》NovaSciencePublishers，Inc.ISBN：1-60021-210-7.（USA2006）.
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目录:
第1章真空知识概论
1.1什么是真空
1.2真空的发现和理论基础
1.3几个重要的概念
1.4真空技术的应用
第2章真空密封
2.1永久密封
2.2非永久密封
2.3真空法兰
2.4真空导入要素
2.5波纹管
第3章影响真空度的要素
3.1真空检漏
3.2真空中的材料气体放出
3.3真空材料的表面净化和抛光
3.4真空系统的排气计算
第4章真空系统
4.1真空系统的构成
4.2真空腔体
4.3真空泵
4.4真空计
4.5真空阀门
4.6各种运动导入器
4.7配管连接元件
第5章典型的薄膜生长方式
5.1物理方式成膜（PhysicalVaporDeposition:PVD）
5.2化学方式成膜（ChemicalVaporDeposition:CVD）
附录
参考文献
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