纳米科学与技术：微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用

作者: 顾长志著

出版社: 科学出版社

出版时间: 2013-06

版次: 1

ISBN: 9787030378255

定价: 118.00

装帧: 精装

开本: 16开

纸张: 胶版纸

页数: 353页

字数: 445千字

正文语种: 简体中文

分类: 自然科学

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　　《纳米科学与技术：微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用》共分十二章，第1-8章分类介绍了几种主要的微纳加工技术，包括：光学曝光、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、激光加工技术、纳米压印技术、离子束技术、薄膜技术和自组装加工，即简要概述了各种加工方法的科学基础，又从实用出发，介绍了各种技术的主要工艺过程，特别涉及各种技术根据需要全新发展的一些创新方法；第9－12章按几个不同的领域，介绍了微纳加工技术在纳米材料与器件研究中的一些应用实例，包括电学、光学、磁学、生物等其它领域。这些成果深刻影响了当前纳米科学与技术的发展，希望能对从事相关领域研究的读者有所启发和借鉴。　　顾长志，1964年6月生于沈阳。1997年于吉林大学获得凝聚态物理专业博士学位。1997—1999年在德国夫琅禾费薄膜与表面工程研究所从事博士后研究，2000年在德国柏林自由大学物理系做高访学者，2004年在日本物质材料国家研究所从事合作研究。1998年被聘为吉林大学教授，2001年至今任中国科学院物理研究所研究员、博士生导师，并任技术部主任、微加工实验室主任。2000年获教育部”跨世纪人才”称号，2001年入选中国科学院“百人计划”，2007年获中国物理学会“胡刚复物理奖”，2008年获得“国家杰出青年基金”。曾主持和承担国家重大和重点项目6项。
　　长期从事纳米材料与纳米结构的可控制备、新奇物性和器件应用方面的研究，获得了一系列研究成果。在Nature子刊、Phys.Rev.Lett.，，Am.Chem，Soc.，Nano　Lett.，Adv.Mater.等学术刊物上发表论文200余篇，获发明专利授权20余项，完成国家鉴定（验收）项目5项。《纳米科学与技术》丛书序
前言
第1章光学曝光
1.1光学曝光系统的基本组成
1.2光学曝光的基本原理与特征
1.2.1光学曝光的基本模式与原理
1.2.2光学曝光的过程
1.2.3分辨率增强技术
1.3短波长光学曝光技术
1.3.1深紫外与真空紫外曝光技术
1.3.2极紫外曝光技术
1.3.3X射线曝光技术
1.3.4LIGA加工技术
1.4光学曝光加工纳米结构
1.4.1泊松亮斑纳米曝光技术
1.4.2表面等离激元纳米曝光技术
1.4.3基于双层图形技术的纳米加工
1.5光学曝光加工三维微纳结构
1.5.1灰度曝光技术
1.5.2基于欠曝光的三维曝光技术
1.5.3基于菲涅耳衍射与邻近效应的三维曝光技术
参考文献

第2章电子束曝光技术
2.1电子束曝光系统组成
2.1.1电子枪
2.1.2透镜系统
2.1.3电子束偏转系统
2.2电子束曝光系统的分类
2.2.1扫描模式
2.2.2束形成
2.3电子束抗蚀剂
2.3.1电子束抗蚀剂的性能指标
2.3.2电子束抗蚀剂制作图形工艺
2.3.3常用电子束抗蚀剂及其工艺过程
2.3.4特殊的显影工艺
2.3.5多层抗蚀剂工艺
2.3.6理想抗蚀剂剖面的加工
2.4电子束与固体的相互作用及邻近效应
2.4.1电子束与固体的相互作用
2.4.2邻近效应及校正
2.5充电效应及解决方法
2.5.1引入导电膜
2.5.2变压电子束曝光系统
2.5.3临界能量电子束曝光
2.6三维结构的制备
2.6.1平整衬底上三维结构的加工
2.6.2三维衬底上图形的制备
2.7电子束曝光分辨率
2.8新型的电子束曝光技术
2.8.1投影电子束曝光
2.8.2微光柱阵列电子束曝光
2.8.3反射电子束曝光
参考文献

第3章聚焦离子束加工技术
3.1聚焦离子束系统的基本组成
3.2聚焦离子束的基本功能与原理
3.2.1离子束成像
3.2.2离子束刻蚀
3.2.3离子束辅助沉积
3.2.4FIB的传统应用
3.3聚焦离子束的三维纳米加工
3.3.1FIB刻蚀加工三维结构
3.3.2FIB沉积加工三维结构
3.3.3FIB辐照加工直维结构
参考文献

第4章激光加工技术
第5章纳米压印技术
第6章刻蚀技术
第7章薄膜技术
第8章自组装加工
第9章微纳加工在电学领域的应用
第10章微纳加工在光学领域的应用
第11章微纳加工在磁学领域的应用
第12章微纳加工在其他领域的应用
内容简介:
　　《纳米科学与技术：微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用》共分十二章，第1-8章分类介绍了几种主要的微纳加工技术，包括：光学曝光、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、激光加工技术、纳米压印技术、离子束技术、薄膜技术和自组装加工，即简要概述了各种加工方法的科学基础，又从实用出发，介绍了各种技术的主要工艺过程，特别涉及各种技术根据需要全新发展的一些创新方法；第9－12章按几个不同的领域，介绍了微纳加工技术在纳米材料与器件研究中的一些应用实例，包括电学、光学、磁学、生物等其它领域。这些成果深刻影响了当前纳米科学与技术的发展，希望能对从事相关领域研究的读者有所启发和借鉴。
作者简介:
　　顾长志，1964年6月生于沈阳。1997年于吉林大学获得凝聚态物理专业博士学位。1997—1999年在德国夫琅禾费薄膜与表面工程研究所从事博士后研究，2000年在德国柏林自由大学物理系做高访学者，2004年在日本物质材料国家研究所从事合作研究。1998年被聘为吉林大学教授，2001年至今任中国科学院物理研究所研究员、博士生导师，并任技术部主任、微加工实验室主任。2000年获教育部”跨世纪人才”称号，2001年入选中国科学院“百人计划”，2007年获中国物理学会“胡刚复物理奖”，2008年获得“国家杰出青年基金”。曾主持和承担国家重大和重点项目6项。
　　长期从事纳米材料与纳米结构的可控制备、新奇物性和器件应用方面的研究，获得了一系列研究成果。在Nature子刊、Phys.Rev.Lett.，，Am.Chem，Soc.，Nano　Lett.，Adv.Mater.等学术刊物上发表论文200余篇，获发明专利授权20余项，完成国家鉴定（验收）项目5项。
目录:
《纳米科学与技术》丛书序
前言
第1章光学曝光
1.1光学曝光系统的基本组成
1.2光学曝光的基本原理与特征
1.2.1光学曝光的基本模式与原理
1.2.2光学曝光的过程
1.2.3分辨率增强技术
1.3短波长光学曝光技术
1.3.1深紫外与真空紫外曝光技术
1.3.2极紫外曝光技术
1.3.3X射线曝光技术
1.3.4LIGA加工技术
1.4光学曝光加工纳米结构
1.4.1泊松亮斑纳米曝光技术
1.4.2表面等离激元纳米曝光技术
1.4.3基于双层图形技术的纳米加工
1.5光学曝光加工三维微纳结构
1.5.1灰度曝光技术
1.5.2基于欠曝光的三维曝光技术
1.5.3基于菲涅耳衍射与邻近效应的三维曝光技术
参考文献

第2章电子束曝光技术
2.1电子束曝光系统组成
2.1.1电子枪
2.1.2透镜系统
2.1.3电子束偏转系统
2.2电子束曝光系统的分类
2.2.1扫描模式
2.2.2束形成
2.3电子束抗蚀剂
2.3.1电子束抗蚀剂的性能指标
2.3.2电子束抗蚀剂制作图形工艺
2.3.3常用电子束抗蚀剂及其工艺过程
2.3.4特殊的显影工艺
2.3.5多层抗蚀剂工艺
2.3.6理想抗蚀剂剖面的加工
2.4电子束与固体的相互作用及邻近效应
2.4.1电子束与固体的相互作用
2.4.2邻近效应及校正
2.5充电效应及解决方法
2.5.1引入导电膜
2.5.2变压电子束曝光系统
2.5.3临界能量电子束曝光
2.6三维结构的制备
2.6.1平整衬底上三维结构的加工
2.6.2三维衬底上图形的制备
2.7电子束曝光分辨率
2.8新型的电子束曝光技术
2.8.1投影电子束曝光
2.8.2微光柱阵列电子束曝光
2.8.3反射电子束曝光
参考文献

第3章聚焦离子束加工技术
3.1聚焦离子束系统的基本组成
3.2聚焦离子束的基本功能与原理
3.2.1离子束成像
3.2.2离子束刻蚀
3.2.3离子束辅助沉积
3.2.4FIB的传统应用
3.3聚焦离子束的三维纳米加工
3.3.1FIB刻蚀加工三维结构
3.3.2FIB沉积加工三维结构
3.3.3FIB辐照加工直维结构
参考文献

第4章激光加工技术
第5章纳米压印技术
第6章刻蚀技术
第7章薄膜技术
第8章自组装加工
第9章微纳加工在电学领域的应用
第10章微纳加工在光学领域的应用
第11章微纳加工在磁学领域的应用
第12章微纳加工在其他领域的应用